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線列式PECVD等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
編號|_-苏耀光:SN20151013154830471
類別_仲博彩票手机APP安卓版:PECVD係列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術---国家副主席有几个,在光學玻璃---掌上七天彩app、矽_|-食品包装设计论文、石英以及不鏽鋼等不同襯底材料上沉積氮化矽-|润美娇、非晶矽和微晶矽等薄膜_|-艾克医院院长,用以製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件|-快乐大本营 棒棒堂。可廣泛應用於大專院校-|麦当网、科研院所的薄膜材料的科研與小批量製備||雪佛兰新乐骋。

     

    設備組成

        多室CVD結構由2個進出片室-_|bl文 h、3個獨立PECVD反應真空室按直線結構連接__-中国卫生人才网成绩查询2017,工件通過傳輸機構輸送到各個真空室中進行工藝處理___偷窥之电车痴汗,各真空室間用插板閥連接诸葛智彩软件怎么样。該係統主要由真空室-_155是移动的吗、真空獲得係統___索爱w610、射頻和甚高頻電源||_海带的血型是、襯底加熱控溫係統--陕西一套节目回看、氣路係統_-卡通战争剑灵修改版、尾氣處理係統--_众盈彩票有人主动带你赢钱正常吗?、傳動係統等部分組成|许艳燕。

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