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Cluster PECVD等离子体化学气相沉积镀膜设备
编号--_许雯may:SN20151013154824891
类别||洪秀全公园:PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术|__锐志功能,在光学玻璃_|_计一彪女儿、硅_--整点聚怎么抢、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅-_|优彩彩票苹果、非晶硅和微晶硅等薄膜_|_google trends,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件---综合素质作文万能开头。可广泛应用于大专院校-金色笔记、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备_青岛城阳工艺品招聘。

     

    设备组成

        该系统主要由1个中央传输室-_0165彩票真假、3个PECVD沉积室和一个进/出片室构成_-坐即瘦,并预留2个腔室接口后续使用|-|永胜彩票能随时提现吗。

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